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技術(shù)交流

等離子體清洗可不可以不分處理對(duì)象？

等離子表面處理技術(shù)進(jìn)行預(yù)處理的優(yōu)點(diǎn)和特性：
1、具有完全的“在線”集成能力（不干擾原有的工藝運(yùn)行）節(jié)能、低成本、環(huán)保
2、不會(huì)改變鋁箔的機(jī)械特性
3、可實(shí)現(xiàn)選擇性的、局部清洗
4、可對(duì)鋁箔進(jìn)行雙面處理
5、處理工序可以集成在卷繞裝置前一、等離子處理器清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序?？梢哉麄€(gè)工藝流水線的處理效率;

二、等離子清洗使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害，同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問(wèn)題;

三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在全球高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;

        四、采用無(wú)線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過(guò)多考慮被清洗物體的形狀。而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果像是甚至更好;

        五、使用等離子清洗機(jī)，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn);

        六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達(dá)到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高，加上清洗過(guò)程不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;

七、使用等離子清洗，避免了對(duì)清洗液的運(yùn)輸、存儲(chǔ)、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場(chǎng)地很容易保持清潔衛(wèi)生;

八、等離子體清洗可以不分處理對(duì)象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無(wú)論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物，還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹(shù)脂等高聚物)都可以使用等離子體來(lái)處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗;

九、在完成清洗去污的同時(shí)，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤(rùn)濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。實(shí)驗(yàn)中當(dāng)我們想要對(duì)各種材料的表面做清洗活化腐蝕沉積或者聚合等操作的時(shí)候，必不可少的就是一臺(tái)低溫等離子處理設(shè)備，而作為實(shí)驗(yàn)室經(jīng)常使用的高精尖設(shè)備，如果使用低溫等離子設(shè)備的操作不當(dāng)很有可能導(dǎo)致設(shè)備損壞或者運(yùn)行結(jié)果受到影響，低溫等離子清洗設(shè)備使用的注意事項(xiàng)。

一，低溫等離子清洗設(shè)備在運(yùn)行的時(shí)候?qū)τ陔娫吹囊笫?span>220V的交流電頻率為50HZ的電源，應(yīng)該在開(kāi)啟設(shè)備之前做好電源的連接和檢查工作，設(shè)備運(yùn)行之后應(yīng)該發(fā)出的是平穩(wěn)的運(yùn)轉(zhuǎn)聲，而且通常會(huì)有綠色的指示燈常亮來(lái)顯示設(shè)備正常運(yùn)行，如果出現(xiàn)黃色故障燈亮起，則要停止運(yùn)行進(jìn)行排休檢查。

二，在使用三和波達(dá)低溫等離子清洗設(shè)備的時(shí)候，應(yīng)該特別注意紅色的警示燈，通常設(shè)備運(yùn)行出現(xiàn)問(wèn)題或者抖動(dòng)頻率過(guò)快的情況下紅色燈會(huì)常亮，這個(gè)時(shí)候應(yīng)該馬上按下復(fù)位鍵觀察設(shè)備，如果設(shè)備依然出現(xiàn)異常則應(yīng)該停止設(shè)備的運(yùn)行，然后進(jìn)行故障的排查，以避免設(shè)備出現(xiàn)損壞。

三，在使用低溫等離子清洗設(shè)備的時(shí)候要定期清洗，而清洗的時(shí)候必須要先斷開(kāi)電源，然后再打開(kāi)真空倉(cāng)和電控箱，而且注意按照說(shuō)明書(shū)上要求的規(guī)范清洗，除此之外現(xiàn)在很多低溫等離子設(shè)備的真空倉(cāng)都是外置環(huán)形電級(jí)所以不容易出現(xiàn)腔內(nèi)污染。

綜上所訴可知：等離子清洗技術(shù)適用于對(duì)物體表面的油，水及微粒等輕度油污進(jìn)行清洗，而且利于“速戰(zhàn)速?zèng)Q”的在線或批量清洗。以上提到的幾點(diǎn)基本上是所有類型的低溫等離子清洗設(shè)備的使用注意事項(xiàng)，而隨著設(shè)備的種類日漸繁多，操作人員在使用前應(yīng)該詳細(xì)閱讀并了解使用說(shuō)明才行，很多低溫等離子設(shè)備還需要操作人員受到上崗培訓(xùn)才行。而且隨著很多低溫等離子設(shè)備開(kāi)始帶有自潔功能，設(shè)備的日常保養(yǎng)也變得更加簡(jiǎn)潔。